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反射式光學膜厚儀
簡要描述:

反射式光學膜厚儀是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜,測量誤差小于1納米,最快每秒可測100次,重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強,在振動或復雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。

  • 產(chǎn)品型號:LJ-FT50UV
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2026-03-12
  • 訪  問  量:49

詳細介紹

品牌藍景類型薄膜
測量范圍約20nm~50μm(折射率1.5時)電源電壓220V±20V50HzAC/V
產(chǎn)地國產(chǎn)

非接觸無損檢測是藍景反射膜厚儀的核心優(yōu)勢之一。設備通過光學探頭發(fā)射光譜,接收膜層表面與界面的反射干涉信號,全程不接觸樣品表面,無機械壓力、無劃傷、無殘留,即使是超柔薄膜、微納結(jié)構(gòu)、精密涂層、貴重樣品,也能放心檢測,大幅降低樣品損耗率,節(jié)約生產(chǎn)成本。這一特性使其廣泛應用于柔性屏、光學鏡片、醫(yī)-用涂層、微機電系統(tǒng)(MEMS)等對樣品完整性要求極-高的場景。

一、產(chǎn)品簡介

反射式光學膜厚儀是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜,測量誤差小于1納米,最-快每秒可測100次,重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強,在振動或復雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。

二、應用領(lǐng)域

反射式光學膜厚儀廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫(yī)學、汽車及新材料與新能源研發(fā)等領(lǐng)域,能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學元件鍍膜、醫(yī)-用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測需求,助力各行業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量與研發(fā)效率。

三、測試原理

反射膜厚儀基于白光干涉原理工作,光源發(fā)出的寬帶光入射至待測薄膜表面后,經(jīng)薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會因光程差產(chǎn)生干涉,干涉信號中包含薄膜厚度、光學常數(shù)等關(guān)鍵信息,設備通過探頭采集干涉后的反射光譜,對特定波段范圍內(nèi)的光譜進行模型擬合后,即可反演解析出薄膜的厚度、光學常數(shù)及粗糙度等參數(shù),整個系統(tǒng)由高強度組合光源提供寬光譜入射光,經(jīng)光學系統(tǒng)傳輸至樣品,反射光返回后由高速光譜模塊采集信號,最終通過上位機軟件完成數(shù)據(jù)處理與結(jié)果輸出。

反射式光學膜厚儀

四、產(chǎn)品特點

1. 精準測量:支持20nm超薄膜厚檢測,準確度±1nm、重復精度0.05nm,滿足精密檢測需求;

2. 高速采樣:最-高采樣速度100Hz,適配產(chǎn)線快速檢測,提升測量效率;

3. 寬光譜覆蓋:采用氘鹵組合光源,光譜覆蓋紫外至近紅外,可解析單層/多層膜厚;

4. 強抗干擾性:高靈敏度元器件搭配抗干擾光學系統(tǒng)+多參數(shù)反演算法,復雜環(huán)境下測量穩(wěn)定;

5. 靈活易適配:支持自定義膜結(jié)構(gòu)測量,設備小巧易安裝,配套軟件及二次開發(fā)包,適配實驗室/產(chǎn)線多場景。



五、技術(shù)參數(shù)

型號LJ-FT50UVLJ-FT50NIR
建議工作距離非聚焦光束,安裝距離5至10mm安裝側(cè)面出光附加鏡時:34.5mm±2mm;
軸向出光時:55mm±2mm;
測量角度±10°±5°
光斑類型彌散光斑;在10mm安裝距離時,光斑直徑約為4mm;聚焦光斑;約200μm
探頭外徑*長度Φ6.35*3200mm3Φ20*73mm
探頭重量190g108g(探頭)、49g(附加鏡)
光源類型氘鹵光源鹵素光源
波長范圍190-1100nm400-1100nm;1000-1700nm
測厚范圍約20nm~50μm(折射率1.5時)約50nm~50μm(折射率1.5時)
適配探頭UV-VISVIS-NIR軸向;
VIS-NIR徑向;(標配其一)
可連探頭數(shù)量1
探頭防護等級IP40
重復精度0.05nm
準確度<±1nm或±0.3%(取較大值)
采樣頻率Max.100Hz(視求解參數(shù)復雜度而定)
測控軟件專用上位機軟件
電源電壓220V±20V50HzAC/
最-大功率50W
工作溫度-10至+40℃
相對濕度20%至85%RH(無冷凝)
控制器重量約5000g








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